Stemplede aluminiumsplatedeler

Oksidasjonsprosess

Følgende trinn er ofte inkludert i oksidasjonsprosessen:

1. Råvaretilførsel: Bruk rør for å tilføre råmaterialene til reaktoren for å opprettholde riktig balanse av råmaterialer inni.
2. Reaksjon: For å utføre oksidasjonsreaksjonen, tilsett oksygen til reaktoren og reguler reaksjonsparametrene (som temperatur, trykk og reaksjonstid).
3. Produktseparasjon: Bruk en luftkjøler til å kjøle ned det reagerte produktet, omdanne det fra gassform til flytende eller fast form, og bruk deretter en separator til å separere produktene som stammer fra de ulike komponentene.
4. Rensing: For å sikre at reaksjonsproduktet oppnår den nødvendige renheten, rens det.
5. Emballasje: Etter at produktene er renset, pakkes de i samsvar med retningslinjer og standarder før de enten selges til kunder eller sendes videre til neste prosesseringstrinn.

I noen spesifikke bruksområder, som for eksempel behandling av halvlederskiver, innebærer oksidasjonsprosessen også å tilføre oksidanter (som vann, oksygen) og termisk energi til silisiumsubstratet for å danne en silisiumdioksidfilm (SiO2). Denne oksidfilmen beskytter skiven ved å forhindre lekkasjestrøm fra å flyte mellom kretsene, forhindre diffusjon under ionimplantasjonsprosessen og fungere som en anti-etsningsfilm som forhindrer feilaktig etsing under etseprosessen.